每日消费电子观察

DUV光刻機從7nm再衝5nm？浸潤光刻之父：行！但成本極高 https://www.chinatimes.com/realtimenews/20231127004798-260409 不過，林本堅表示，依靠現有的DUV光刻機（浸潤式）製造出5nm晶片依然是可行的，但是至少需要進行4重曝光。不幸的是，這種工藝的缺點是不僅耗時，而且價格昂貴，還會影響整體良率。