DUV光刻機從7nm再衝5nm？浸潤光刻之父：行！但成本極高

每日消费电子观察

TechInsights 确认华为 Mate Pro 60 采用中芯国际 N+2 7nm 工艺 https://mp.weixin.qq.com/s/gd7LKWFsVD8WJDU2CTf9LQ 此内容因违规无法查看接相关投诉，此内容违反《互联网用户公众账号信息服务管理规定》，查看详细内容 https://web.archive.org/web/20230901070425/https://mp.weixin.qq.com/s/gd7LKWFsVD8WJDU2CTf9LQ

DUV光刻機從7nm再衝5nm？浸潤光刻之父：行！但成本極高

https://www.chinatimes.com/realtimenews/20231127004798-260409

不過，林本堅表示，依靠現有的DUV光刻機（浸潤式）製造出5nm晶片依然是可行的，但是至少需要進行4重曝光。不幸的是，這種工藝的缺點是不僅耗時，而且價格昂貴，還會影響整體良率。