俄罗斯公布自家 EUV 光刻机路线图，目标：比 ASML 低便宜、更简易

这项计划由 俄罗斯 科学院微结构物理研究所主导，采用创新的 11.2 纳米波长激光技术，这与目前业界主流的 13.5 纳米技术有显著差异，可能需要数年甚至数十年的时间。
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俄國公布自家 EUV 曝光機路線圖，目標：比 ASML 低便宜、更簡易 - INSIDE

即使是美國和日本這樣的技術大國，也未能在 EUV 領域與 ASML 競爭，這個計畫雖反映了俄羅斯在半導體產業追求技術自主的決心，但其實際成效還有待觀察。