每日消费电子观察

ASML 向英特尔交付首台 High-NA EUV 光刻机 https://www.ithome.com/0/740/938.htm

阿斯麦 High-NA EUV 光刻机取得重大突破，成功印刷 10 纳米线宽图案

https://www.ithome.com/0/762/554.htm

ASML 公司在声明中表示：“我们位于埃因霍芬的高数值孔径 EUV 系统首次印刷出 10 纳米线宽（dense line）图案。此次成像是在光学系统、传感器和移动平台完成粗调校准后实现的。接下来我们将致力于让系统达到最佳性能表现，并最终在现实生产环境中复制这一成果。”