每日消费电子观察

大日本印刷将为 Rapidus 量产尖端半导体零部件 https://cn.nikkei.com/industry/itelectric-appliance/55200-2024-03-27-08-55-16.html 大日本印刷 开发和量产的是面向2纳米产品的光掩模。光掩模在在半导体基板硅晶圆上形成电路的曝光工序中使用。曝光是半导体制造的重要工序之一，通过绘有电路形状的光掩模向晶圆照射特殊光，烧刻电路。