每日消费电子观察
17:58 · Mar 13, 2023 · Mon
佳能发布半导体光刻机新品 FPA-5550iX，可用于全画幅 CMOS 制造等
https://www.ithome.com/0/679/297.htm
====糊====
省流:传统制程 i线365nm机器 不是EUV 不是DUV 做不了28nm
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佳能发布半导体光刻机新品 FPA-5550iX，可用于全画幅 CMOS 制造等 - IT之家
佳能于今日发售了面向前道工序的半导体光刻机新产品 —— i 线步进式光刻机“FPA-5550iX”，该产品能够同时实现 0.5μm（微米）高解像力与 50×50mm 大视场曝光。据介绍，新产品“FPA-5550iX”能够同时实现 50×50mm 大视场及 0.5μm 高解像力曝光
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